1. La méthode de frittage de réaction (RS)

La méthode de moulage général est adoptée. Tout d'abord, la poudre de silicium est enfoncée dans un corps vert de la forme souhaitée, puis placée dans un four denitruration pour un traitement de frittage pré-nnitriding (nitruration partiel). Le corps vert après avoir pré-nnitriding a une certaine force et peut effectuer divers traitements mécaniques (tels que le tournage, la planification, le fraisage, le forage) et enfin, à la température supérieure au point de fusion du silicium; Le corps vert est ànouveau entièrementnitrité et fritté pour obtenir un produit avec un faible changement dimensionnel (c'est-à-dire après fritté du corps vert, le rétrécissement est très petit, le taux de rétrécissement linéaire est-011%) Ce produit peut généralement être utilisé sans broyage. La méthode de frittage réactionnel convient à la fabrication de pièces à formes complexes et à des dimensions précises, et le coût est également faible, mais le temps denitruration est très long.-<

Anvantages denitrure de silicium fritté réactif:

Manufacture de produits avec des formes complexes sans usinage coûteux et précision dimensionnelle facile; Pas besoin d'ajouter des aides de frittage.

2. Méthode de frittage à chaud de pressage (HPS)

La poudre SI3N4 et une petite quantité d'additifs (tels que Mgo, AL2O3, MGF2, Fe2O3, etc.) sont chaudes et frittées à une pression supérieure à 1916MPA et à une température supérieure à la température 1600 ℃. Les céramiques SI3N4 frittées chaudeypprimées utilisées par certaines entreprises au Royaume-Uni et les États-Unis ont une force de plus de 981 mpa, ainsi que les additifs et la composition de phase pendant le frittage ont un impact important sur la performance des produits. En raison du contrôle strict de la composition de la phase de limite de grain et du traitement thermique approprié après le frittage de la céramique SI3N4, il est possible d'obtenir des matériaux céramiques de la série SI3N4 quine diminuent pas de manière significative de la force (jusqu'à 490 mpa ou plus) même lorsque le La température est aussi élevée que 1300 ° C et la dénaturation de la résistance au fluage peut être améliorée par trois ordres de grandeur. Si le matériau céramique SI3N4 est pré-noxidisé à une température élevée de 1400

1500 ℃, la phase Si2N2O sera formée à la surface du matériau céramique, qui peut améliorer considérablement la résistance à l'oxydation et la résistance à la température élevée de la céramique SI3N4. Les propriétés mécaniques des céramiques SI3N4 produites par le frittage de pressage chaud sont supérieures à celles du frittage réactionnel SI3N4, à haute résistance et à haute densité. Cependant, le coût de fabrication est élevé et l'équipement de frittage est complexe. En raison du grand rétrécissement du corps fritté, la précision dimensionnelle du produit est limitée dans une certaine mesure. Il est difficile de fabriquer des pièces complexes. Seules les pièces avec des formes simples peuvent être fabriquées et l'usinage de la pièce est également difficile.

--Anvantages et inconvénients dunitrure de silicium fritté à chaud:--

avantages:

Produits à haute densité et La force peut être obtenue.

disAdvantages:

low Efficacité de la production, coût élevé, forme de produit simple, usinage ultérieur difficile.

3. Terminage de la pression atmosphérique (PLS)

IN Conditions d'augmentation de la pression de l'atmosphère d'azote de frittage, la température de décomposition de SI 3 N 4 est augmentée (généralement à N2

1 ATM, il commence à se décomposer de 1800) et après frittage de pressionnormal dans la plage de température de 1700

1800 ℃, le frittage de la pression de gaz est effectué dans la plage de température de 18002000 ° C. Le but de cette méthode est d'utiliser la pression atmosphérique pour promouvoir la densification des céramiques SI3N4, augmentant ainsi la force de la céramique. Les propriétés du produit résultant sont légèrement inférieures à celles du frittage chaudyppressing, qui présente des inconvénients similaires au frittage chaud

yppresing.

=-4. Méthode de frittage de la pression de gaz (GPS)---IN

IN ANNÉES, les gens ont mené beaucoup de recherches sur le frittage de la pression du gaz et ont progressé de grands progrès. Le frittage de la pression de gaz dunitrure de silicium est effectué à une température d'environ 2000 ° C sous une pression de 1

10 MPa et une pression élevée de l'azote inhibe la décomposition à haute température dunitrure de silicium. En raison de l'utilisation d'un frittage à haute température, l'addition d'aides de frittage moins suffisantes est suffisante pour favoriser la croissance des grains SI3N4 et une céramique hauteoughness contenant en croissance de longues graines de colonne avec une densité de99% est obtenue . Par conséquent, le frittage de la pression atmosphérique a été favorisé de plus en plus d'attention en laboratoire et en production. Les céramiques denitrure de silicium fritté de la pression de gaz ont une résistance élevée, une résistance élevée et une bonne résistance à l'usure, et peuvent produire directement diverses formes complexes proches de la forme finale, ce qui peut réduire considérablement les coûts de production et les coûts de traitement. Et son processus de production est proche du processus de production de carbure cémenté, qui convient à la production de masse.

-5. Le frittage lourd (PS)-->LLa réaction fritté SI3N4 fritté a été placé en poudre denitrure de silicium en présence d'un aident de frittage et re

stered à haute température pour obtenir un produit Si3n4 dense. L'aide de frittage peut être introduite lors du fraisage de la boule de poudre de silicium, ou peut être ajouté par imprégnation après frittage réactionnel au moyen d'une imprégnation. En raison de la préfabrication pendant le processus de frittage réactionnel, le rétrécissement au cours du processus de ré tsintingn'est que de 6% à 10%, de sorte que des pièces à formes complexes et d'excellentes performances peuvent être préparées.

Annavantages d'un front de frittage:

-UP à 99% de densité, comparable à Hot-ypressed SI3N4.

6. Le pressage isostatique chaud (HIP)

LE Le mélange de la poudre de mélange denitrure de silicium et d'aide au frittage est encapsulé dans une enveloppe en métal ou en verre et fritté à haute température par gaz haute pression après l'aspirateur. La pression couramment utilisée est de 200 MPA et la température est de 2000. Le pressage isostatique chaud dunitrure de silicium peut atteindre la densité théorique, mais son processus est compliqué et le coût est élevé.-